平面全息光柵
全息光柵通常用于對雜散光的應(yīng)用中。其基底鍍有光敏材料,將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產(chǎn)生的單色光和相干光束組成的相交光束之間,使光敏材料感光。相交激光束產(chǎn)生一系列平行且等距的干涉條紋,條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定,干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復(fù)制刻劃的原始光柵相同的過程用于復(fù)制。由于全息光柵刻線形狀以及刻線間距是**的,所以產(chǎn)生的雜散光遠少于刻劃光柵。全息光柵可以采用兩種凹槽輪廓,正弦和閃耀。
相關(guān)參數(shù):
刻線
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600~4500Lines/mm
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閃耀波長
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150-1000nm
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尺寸公差
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±0.5mm
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材料
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K9
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鍍膜
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鋁
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類型
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反射衍射光柵
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編號
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刻線密度
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光譜范圍
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閃耀或峰值波長
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刻劃面積
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(l/mm)
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(nm)
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(nm)
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(H×W mm2)
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GH-111
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1200
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190-800
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220
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64×64
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GH-112
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1800
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190-1000
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250
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64×64
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GH-113
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2400
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190-800
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250
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70×100
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GH-114
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3600
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170-500
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190
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70×100
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GH-115
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4321
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160-450
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170
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58×58
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